有機質成熟度

1.技術原理

質體反射率是最重要的有機質成熟度指標，并用來標定從早期成巖作用直至深變質階段有機質的熱演化。鏡質體是一種煤素質，但看不到植物的組織，主要是由芳香稠環化合物組成，隨著煤化程度的增大，芳香結構的縮合程度也加大，這就使得鏡質體的反射率增大。生油母質的熱裂解過程與鏡質體的演化過程密切相關，所以他是一個良好的有機質成熟度指標，有機質熱變質作用愈深，鏡質體反射率愈大。一般認為鏡質體反射率在0.5%-1.2%之間為石油成熟帶。

鏡質組反射率是指在波長 546nm±5nm(綠光 )處，鏡質組拋光面的反射光強度對垂直入射光強度的百分比。它是利用光電效應原理，通過光電倍增管將反射光強度轉變為電流強度，并與相同條件下已知反射率的標樣產生的電流強度相比較而得出。

詳細實驗步驟參考SY/T 5124-2012《沉積巖中鏡質體反射率測定方法》，下載該標準請轉到本網站“下載中心”欄目里“分析方法及標準”。

 2.主要儀器簡介

ZEISS顯微鏡及HD光度計

    Axioskop 40 Pol具有線形或環形兩種類型的偏光，線偏光只能從一個特定方向看到樣品結構，而環偏光可以在不轉動載物臺的情況下，看到各個方向的圖象，有利于對巖石薄層進行彩色照相，而且有利于通過圖象分析檢測塑料結構或玻璃的應力；高反差的獨創技術C-DIC，適用于EC Epiplan-Neofluars物鏡；使用方便，可以通過簡單地調節旋鈕來獲得固定圖象片段的最佳反差；無接觸測量：新型反射光干涉儀TIC環行雙光束干涉儀能夠測量物體的表面構造和粗糙度，測量范圍50到5000納米，適用于各種倍率的物鏡；磁性材料專用模塊，磁性材料在新型材料和數據存儲設備中有著日益增長的重要性，在顯微鏡觀察中，通過克爾效應成像，第一次在蔡司顯微鏡上得以實現。

技術指標：

（1）物鏡倍數：5X、10X、20X、40X、50X、63X、100X，可選1.25X、2.5X、150X；

（2）目鏡倍數：10X/23mm；

（3）物鏡轉盤：6孔

（4）觀察功能：

 透射光: 偏光、正交偏光、錐光、明場、暗場、相襯、DIC

 反射光：偏光、明場、暗場、DIC、C-DIC、熒光

（5）可擴展性：可配圖像分析系統(數碼相機、攝像頭、圖像分析軟件)

（6）可配冷熱臺

（7）可配顯微分光光度計工作介質：氮氣和氦氣。

 3.測試須知

送樣需求：樣品應注明地區、井號、深度、層位以及巖性；樣品具體大小可以參考光片制作送樣要求；

測試周期：提前預約，10-15個工作日內完成。