有機質成熟度
1.技術原理
質體反射率是最重要的有機質成熟度指標,并用來標定從早期成巖作用直至深變質階段有機質的熱演化。鏡質體是一種煤素質,但看不到植物的組織,主要是由芳香稠環化合物組成,隨著煤化程度的增大,芳香結構的縮合程度也加大,這就使得鏡質體的反射率增大。生油母質的熱裂解過程與鏡質體的演化過程密切相關,所以他是一個良好的有機質成熟度指標,有機質熱變質作用愈深,鏡質體反射率愈大。一般認為鏡質體反射率在0.5%-1.2%之間為石油成熟帶。
鏡質組反射率是指在波長 546nm±5nm(綠光 )處,鏡質組拋光面的反射光強度對垂直入射光強度的百分比。它是利用光電效應原理,通過光電倍增管將反射光強度轉變為電流強度,并與相同條件下已知反射率的標樣產生的電流強度相比較而得出。
詳細實驗步驟參考SY/T 5124-2012《沉積巖中鏡質體反射率測定方法》,下載該標準請轉到本網站“下載中心”欄目里“分析方法及標準”。
2.主要儀器簡介
ZEISS顯微鏡及HD光度計
Axioskop 40 Pol具有線形或環形兩種類型的偏光,線偏光只能從一個特定方向看到樣品結構,而環偏光可以在不轉動載物臺的情況下,看到各個方向的圖象,有利于對巖石薄層進行彩色照相,而且有利于通過圖象分析檢測塑料結構或玻璃的應力;高反差的獨創技術C-DIC,適用于EC Epiplan-Neofluars物鏡;使用方便,可以通過簡單地調節旋鈕來獲得固定圖象片段的最佳反差;無接觸測量:新型反射光干涉儀TIC環行雙光束干涉儀能夠測量物體的表面構造和粗糙度,測量范圍50到5000納米,適用于各種倍率的物鏡;磁性材料專用模塊,磁性材料在新型材料和數據存儲設備中有著日益增長的重要性,在顯微鏡觀察中,通過克爾效應成像,第一次在蔡司顯微鏡上得以實現。
技術指標:
(1)物鏡倍數:5X、10X、20X、40X、50X、63X、100X,可選1.25X、2.5X、150X;
(2)目鏡倍數:10X/23mm;
(3)物鏡轉盤:6孔
(4)觀察功能:
透射光: 偏光、正交偏光、錐光、明場、暗場、相襯、DIC
反射光:偏光、明場、暗場、DIC、C-DIC、熒光
(5)可擴展性:可配圖像分析系統(數碼相機、攝像頭、圖像分析軟件)
(6)可配冷熱臺
(7)可配顯微分光光度計工作介質:氮氣和氦氣。
3.測試須知
送樣需求:樣品應注明地區、井號、深度、層位以及巖性;樣品具體大小可以參考光片制作送樣要求;
測試周期:提前預約,10-15個工作日內完成。